Kilestruktuurid

Kilestruktuurid nanoelektroonika rakendusteks ja funktsionaalseteks pinnakateteks

Grupi juht: Väino Sammelselg, Tartu Ülikooli füüsika instituut

Uurimistöö eesmärgiks on täiustada olemasolevaid ja arendada välja uusi tehnoloogilisi meetodeid, mis lubaksid valmistada üliõhukesi kihte ja nano-osakesi sisaldavaid tahkisestruktuure rakendamiseks

• järgmise põlvkonna muutmälude kondensaatorstruktuurides,
• takistuse muutusel põhinevates mälustruktuurides (memristorides),
• laengute lõksustamisel põhinevates välkmäludes,
• laengukandjate suure liikuvusega materjalidel põhinevate väljatransistoride paisuahelates,
• spintroonikaseadistes ja
• funktsionaalsetes pinnakatetes, sh. difusiooni tõkestavates, passiveerivates, korrosioonivastastes, biosõbralikes jt sarnastes kihtides.

Seejuures kasutatakse mitmesuguseid materjalitehnoloogiaid, ka selliseid, mis lubavad valmistada grafeeni ja nano-osakesi, kuid peamiseks meetodiks üliõhukesi tahkisekihte sisaldavate struktuuride valmistamisel on kavandatud siiski aatomkihtsadestamine, mis võimaldab kontrollida materjalide sünteesi üksiku aatomkihi tasemel.