{"id":279,"date":"2024-05-03T18:13:59","date_gmt":"2024-05-03T15:13:59","guid":{"rendered":"https:\/\/sisu.ut.ee\/namurplus\/?page_id=279"},"modified":"2026-01-11T00:41:43","modified_gmt":"2026-01-10T22:41:43","slug":"litograafia-teenused-2","status":"publish","type":"page","link":"https:\/\/sisu.ut.ee\/namurplus\/litograafia-teenused-2\/","title":{"rendered":"Litograafia teenused"},"content":{"rendered":"<p>Tartu \u00dclikooli F\u00fc\u00fcsika Instituut pakub v\u00f5imalust kasutada fotolitograafia ja elektronlitograafia teenuseid tasapinnalistele objektidele resistimaskide valmistamiseks.<\/p>\n\n\n\n<figure class=\"wp-block-image aligncenter is-resized\"><img decoding=\"async\" src=\"https:\/\/sisu.ut.ee\/wp-content\/uploads\/sites\/293\/fotolitograafia_eksponeerimisseade_ok.jpg\" alt=\"Heidelberg Instruments \u03bcMLA\" style=\"width:698px;height:auto\" title=\"Heidelberg Instruments \u03bcMLA\"><\/figure>\n\n\n\n<p>Fotolitograafia abil on v\u00f5imalik planaarsetele substraatidele valmistada binaarseid fotoresisti struktuure kasutades UV valgust. Antud struktuure on v\u00f5imalik kasutada maskina materjalide pinnale sadestamisel (n metallid) v\u00f5i alusmaterjali s\u00f6\u00f6vitamisel (n r\u00e4ni). Resisti on hiljem v\u00f5imalik lihtsalt eemaldada, kasutades vastavat solvent. Samuti v\u00f5ib resist ise olla funktsionaalseks kihiks. Maskivaba fotolitograafia seade Heidelberg Instruments \u03bcMLA v\u00f5imaldab CAD disaine otse objektidele eksponeerida ilma vajaduseta valmistada eraldi fotomaski. Eksponeerimine toimub raster skaneerimise meetodil 390 nm UV LED-iga. Minimaalne struktuuride m\u00f5\u00f5t on 1 \u00b5m ning maksimaalne kirjutamiskiirus kuni 100 mm2\/min, s\u00f5ltumata struktuuri keerukusest. \u03bcMLA seadmes saab eksponeerida objekte suurusega alates 5 mm \u00d7 5 mm kuni 5\u201d \u00d7 5\u201d (127 mm \u00d7 127 mm).<\/p>\n\n\n\n<p>Kasutada on v\u00f5imalik paljusid erinevaid positiivseid ja negatiivseid fotoresiste, laias resistikihi vahemikus. Lisaks binaarsetele struktuuridele v\u00f5imaldab \u03bcMLA valmistada ka 3D struktuure halltoon litograafia meetodil. V\u00f5imalike rakenduste valik on v\u00e4ga lai, ulatudes elektriliste kontaktide ja mikrokanalite valmistamisest keerukate pinnastruktuurideni.<\/p>\n\n\n\n<p>Litograafiakompleks asub kollase valgusega ISO 5 puhasruumis ning sisaldab vajalikke objektide k\u00e4sitsemise t\u00f6\u00f6riistu, sh vurrkattur, kuumutusplaadid ja vedelkeemia t\u00f6\u00f6pinnad. Teemant skraiberi (AVT Technologie GmbH RV-129) abil on v\u00f5imalik suuremaid substraate t\u00fckeldada v\u00e4iksemateks osadeks.<\/p>\n\n\n\n<p>Elektronkiir litograafia kasutab struktuuride resisti kandmisel footonite asemel elektrone. Litograafiakompleksi kuulub Raith Elphy Quantum nanostruktuuride generaator, mis on \u00fchendatud FEI Helios NanoLab 600 skaneeriva elektronmikroskoobiga. Elektronlitograafia v\u00f5imaldab valmistada nanostruktuure, mille minimaalsed m\u00f5\u00f5tmed on alla 100 nm.<\/p>\n\n\n\n<p><strong>Teenused sisaldavad:<\/strong><\/p>\n\n\n\n<ul class=\"wp-block-list\">\n<li>spetsialisti(de) konsultatsioone: tellijaga arutatakse l\u00e4bi nende teaduslik-tehnilisd probleemid ja hinnatakse, kas antud metoodikad suudavad pakkuda tellijale huvipakkuvatele probleemidele lahendusi ning kas eelnevalt on tehtud v\u00f5i on vajalik teha teatud eelkatseid,<\/li>\n\n\n\n<li>katseobjektide ettevalmistus, eksponeerimine, ilmutamine ja inspekteerimine kvalifitseeritud ja kogenud spetsialistide poolt,<\/li>\n\n\n\n<li>abi m\u00f5\u00f5tmistulemuste interpreteerimisel, vajadusel ka anal\u00fc\u00fcsimisel,<\/li>\n\n\n\n<li>tellitud arendustegevusi, mille k\u00e4igus t\u00f6\u00f6tatakse v\u00e4lja ja\/v\u00f5i juurutatakse uusi uurimismeetodeid, mida antud taristu v\u00f5imaldab rakendada tellija konkreetsete probleemide lahendamiseks,<\/li>\n\n\n\n<li>tellitud uurimist\u00f6id, kus labori spetsialistid koost\u00f6\u00f6s tellijaga lahendavad tellijale huvipakkuvaid keerukamaid teaduslik-tehnilisi probleeme, mida pole v\u00f5imalik lahendada m\u00f5ne l\u00fchiajalise m\u00f5\u00f5tmise\/anal\u00fc\u00fcsi k\u00e4igus \u2013 viimast kahte teenust saab\/on m\u00f5istlik sageli \u00fchitada.<\/li>\n<\/ul>\n\n\n\n<p>V\u00f5imalik on korraldada insener-tehnilistele t\u00f6\u00f6tajatele l\u00fchiajalisi koolitusi mikro- ja nanostruktuuride valmistamise meetodites, kus muuhulgas tutvustatakse vastavate seadmete olemasolu Eestis ja l\u00e4hiriikides.<\/p>\n\n\n\n<figure class=\"wp-block-image aligncenter is-resized\"><img loading=\"lazy\" decoding=\"async\" width=\"1612\" height=\"1216\" src=\"https:\/\/sisu.ut.ee\/wp-content\/uploads\/sites\/293\/kontakteerimisseade.jpg\" alt=\"Wire Bonder 53xxBDA\" class=\"wp-image-32\" style=\"width:684px;height:auto\" title=\"Wire Bonder 53xxBDA\" srcset=\"https:\/\/sisu.ut.ee\/wp-content\/uploads\/sites\/293\/kontakteerimisseade.jpg 1612w, https:\/\/sisu.ut.ee\/wp-content\/uploads\/sites\/293\/kontakteerimisseade-300x226.jpg 300w, https:\/\/sisu.ut.ee\/wp-content\/uploads\/sites\/293\/kontakteerimisseade-1024x772.jpg 1024w, https:\/\/sisu.ut.ee\/wp-content\/uploads\/sites\/293\/kontakteerimisseade-768x579.jpg 768w, https:\/\/sisu.ut.ee\/wp-content\/uploads\/sites\/293\/kontakteerimisseade-1536x1159.jpg 1536w\" sizes=\"auto, (max-width: 1612px) 100vw, 1612px\"><\/figure>\n\n\n\n<p>Kontakteerimisseade 53xxBDA (F&amp;S Bondtec Semiconductor GmbH) on \u00fcks osa litograafiakompleksist ja selle sihtotstarve on elektriliste kontaktide valmistamine miniatuursetele katsekehadele ja elektroonikakomponentidele. Seade v\u00f5imaldab saada 17,5\u201350 \u00b5m l\u00e4bim\u00f5\u00f5duga kuldtraatide ots\u00fchendusi ning 17.5\u201375 \u00b5m l\u00e4bim\u00f5\u00f5duga kuld- v\u00f5i alumiiniumtraatide ja 30 \u00d7 12 \u00b5m kuni 250 \u00d7 25 \u00b5m lintide k\u00fclg\u00fchendusi.<\/p>\n\n\n\n<figure class=\"wp-block-image aligncenter is-resized\"><img loading=\"lazy\" decoding=\"async\" width=\"1936\" height=\"1288\" src=\"https:\/\/sisu.ut.ee\/wp-content\/uploads\/sites\/293\/profilomeeter.jpg\" alt=\"DektakXT Stylus Profiler\" class=\"wp-image-33\" style=\"width:675px;height:auto\" title=\"DektakXT Stylus Profiler\" srcset=\"https:\/\/sisu.ut.ee\/wp-content\/uploads\/sites\/293\/profilomeeter.jpg 1936w, https:\/\/sisu.ut.ee\/wp-content\/uploads\/sites\/293\/profilomeeter-300x200.jpg 300w, https:\/\/sisu.ut.ee\/wp-content\/uploads\/sites\/293\/profilomeeter-1024x681.jpg 1024w, https:\/\/sisu.ut.ee\/wp-content\/uploads\/sites\/293\/profilomeeter-768x511.jpg 768w, https:\/\/sisu.ut.ee\/wp-content\/uploads\/sites\/293\/profilomeeter-1536x1022.jpg 1536w, https:\/\/sisu.ut.ee\/wp-content\/uploads\/sites\/293\/profilomeeter-1920x1277.jpg 1920w\" sizes=\"auto, (max-width: 1936px) 100vw, 1936px\"><\/figure>\n\n\n\n<p>Litograafiakompleksi osaks on ka profilomeeter DektakXT Stylus Profiler pinnaprofiili m\u00f5\u00f5tmineks, sealhulgas\u00a0litograafiaprotsesside kontrolliks.<\/p>\n\n\n\n<p>Kontaktisik:\u00a0<strong>Kaupo Kukli<\/strong>\u00a0(e-mail: kaupo.kukli@ut.ee)<\/p>\n\n\n\n<p><em>Eesti teadustaristu teekaardi objekt \u201eNanomaterjalide tehnoloogiate ja uuringute keskus (NAMUR+)\u201d on kaasrahastatud Euroopa Regionaalarengu Fondist (projektid \u201eNanomaterjalid \u2013 rakendused ja uuringud\u201c, 3.2.0304.12-0397, 01.02.2012-31.12.2015 ja \u201eNanomaterjalide tehnoloogiate ja uuringute keskus\u201d, 2014-2020.4.01.16-0123, 01.01.2017 \u2013 30.06.2022 ) ning Eesti Teadusagentuuri poolt (projektid TARISTU24-TK26, IUT20-54 ja TT13).<\/em><\/p>\n\n\n\n<p><\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"<p>Tartu \u00dclikooli F\u00fc\u00fcsika Instituut pakub v\u00f5imalust kasutada fotolitograafia ja elektronlitograafia teenuseid tasapinnalistele objektidele resistimaskide valmistamiseks. Fotolitograafia abil on v\u00f5imalik planaarsetele substraatidele valmistada binaarseid fotoresisti struktuure kasutades UV valgust. Antud struktuure on v\u00f5imalik kasutada maskina materjalide pinnale sadestamisel (n metallid) v\u00f5i &#8230;<\/p>\n","protected":false},"author":76,"featured_media":0,"parent":0,"menu_order":0,"comment_status":"closed","ping_status":"closed","template":"","meta":{"_acf_changed":false,"inline_featured_image":false,"footnotes":""},"class_list":["post-279","page","type-page","status-publish","hentry"],"acf":[],"_links":{"self":[{"href":"https:\/\/sisu.ut.ee\/namurplus\/wp-json\/wp\/v2\/pages\/279","targetHints":{"allow":["GET"]}}],"collection":[{"href":"https:\/\/sisu.ut.ee\/namurplus\/wp-json\/wp\/v2\/pages"}],"about":[{"href":"https:\/\/sisu.ut.ee\/namurplus\/wp-json\/wp\/v2\/types\/page"}],"author":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/sisu.ut.ee\/namurplus\/wp-json\/wp\/v2\/users\/76"}],"replies":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/sisu.ut.ee\/namurplus\/wp-json\/wp\/v2\/comments?post=279"}],"version-history":[{"count":6,"href":"https:\/\/sisu.ut.ee\/namurplus\/wp-json\/wp\/v2\/pages\/279\/revisions"}],"predecessor-version":[{"id":457,"href":"https:\/\/sisu.ut.ee\/namurplus\/wp-json\/wp\/v2\/pages\/279\/revisions\/457"}],"wp:attachment":[{"href":"https:\/\/sisu.ut.ee\/namurplus\/wp-json\/wp\/v2\/media?parent=279"}],"curies":[{"name":"wp","href":"https:\/\/api.w.org\/{rel}","templated":true}]}}